DH-CVD-XX 系列 氣氛熱處理程控高溫爐
本裝置包含燒結(jié)系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)，供氣系統(tǒng)于一體，應(yīng)用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米管生長(zhǎng)、石墨烯生長(zhǎng)以及復(fù)合碳材料的滲透等；也可用于氣相傳輸法材料合成及制備納米材料，如 ZnO、CdS 等；溶液法制備薄膜，如制備龐磁電阻薄膜，制備高溫超導(dǎo)薄膜等；固相反應(yīng)法材料合成；在大氣、真空或氣氛保護(hù)下進(jìn)行各種材料的熱處理。
設(shè)備規(guī)格及配置
上一個(gè)：DHDP& DHIP 系列 射頻 CCP/ICP 薄膜沉積裝置
下一個(gè)：DH-USP 系列 超聲霧化熱解噴涂裝置
